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过滤在化学机械抛光液（CMP slurry）的制取和使用过程中是必不可少的。使用传统的动态光散射粒 度仪不可能完全检测和定量分析过滤效果的好坏，即不能检测出导致研磨过程中划伤晶片的研磨液中大颗 粒是否被滤除。有时过滤器的实际使用寿命会由于某种因素的影响比预期的使用寿命要缩短，而过滤器的 失效会导致研磨液中的大颗粒划伤晶片。如果没有一种方法检测/监测研磨液过滤前后的尾部大颗粒，生产 厂家就只能通过频繁更换过滤器的方法来保证产品质量的万无一失，这样做既浪费人力又浪费物力。
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