Nicomp动态光散射(DLS)系统可检测0.3 nm到10μm的粒度分布及zeta电位。Nicomp 系统搭载着Nicomp 多峰算法,解决了复杂体系样本颗粒分布检测的难题。它可以将一个次峰从主峰的尾巴中分离出来,帮助研究人员确定样本主要成分的颗粒度大小。当尝试开发新材料时,这是一个至关重要的参数,这将很大程度上影响产品的最终性能。
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工作原理
Nicomp 3000 系列纳米激光粒度仪采用动态光散射原理检测分析样品的粒度分布。基于多普勒电泳光散射原理(Doppler Electrophoretic Light Scattering,DELS)检测ZETA电位。其主要用于检测额纳米级别及亚微米级别的体系,粒径检测范围0.3nm-10μm,ZETA电位检测范围为+/-500mV。动态光散射方法(DLS)从传统的光散射理论中分离,关注光强随着时间的波动行为。我们通过光强值的波动得到自相关函数,从而获得衰减时间常量 T,根据公式换算获得粒子的扩散速度 D(Diffusion,扩散系数) |
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Stokes-Einstein方程∶ D=kT/6rnR D=扩散系数 T=温度 R=粒子半径 η=粘度 k=玻尔兹曼常数 |
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粒径检测原理图 |
Zeta电位的检测时,在样品插入电极,施加电压,根据样品中电荷的迁移方向确认电荷正负性,根据迁移速率确认Zeta电位绝对值。Nicomp Z3000设备集成两种Zeta电位算法:频谱分析法和相位分析法。相位分析法在很大程度上解决了频谱分析仪在高盐体系,有机相体系检测中的局限性,PSS也是首家将相位分析法应用于Zeta电位检测。 |
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Zeta电位检测原理图 |
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应用
医药领域:蛋白、病毒、脂质体、乳剂、胶束、纳米晶、疫苗、纳米载药、细胞等
化工领域:墨水,颜料,高分子材料,化工染料,润滑剂,石油化工,量子点等;
半导体领域:光刻胶、CMP slurry、树脂等;
其他:食品,饮料,化妆品等;