PSI-40 生产型高压微射流均质机
PSI-300 生产型高压微射流均质机
AccuSizer® A2000 不溶性微粒分析仪
ACCUSIZER® A7000 APS 全自动计数粒度仪
LUMiFuge 乳液分析仪
LUMiReader 多波长分离行为分散仪
LUMiReader X-Ray X射线分离行为分散仪
NanoStandard™ 纳米粒度标准物质
MicroStandard™ 微米粒度标准物质
FMS-Online在线液体颗粒监测仪
SR-DLS空间动态光散射纳米激光粒度仪
Mini-Fxnano高浓度在线液体颗粒监测仪
摘要: 化学机械抛光液(CMP slurry)的制取和使用过程中需要测试粒度分布和大颗粒的含量。使用传统的粒度 仪以及激光衍射仪器不可能完全检测和定量分析 CMP 的好坏,其尾端大粒子会导致研磨液划伤晶片,使 得生产芯片企业出现质量上不过关的难题。
关键词: SPOS技术,氧化铈CMP,Slurry